檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "Hung-Fei Kuo".eadvisor (精準) and year="111"
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近年對於晶片的需求大幅增長,而其電路設計圖案依賴於微影技術將其轉印至矽基板上,並且隨著關鍵尺寸(Critical Dimension)的日漸微縮、單位面積下所容納的電路圖案增多以及晶片尺寸增大的趨勢…
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半導體製程技術的進步促使元件結構的微縮,除了對製程技術迎來更大的挑戰,同時也需要更有效率的量測方法來驗證製程結果。關鍵尺寸(Critical dimension)量測技術是驗證製程標準的關鍵步驟。傳…
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在數位微影製程中,像差對半導體和微機電系統製造品質的影響至關重要, 因此,有效地校正由數位微影系統產生的畸變是提升製程良率的重大研究議題。 在本篇研究中,我們深入探討數位微影系統的畸變補償問題,並提…